光罩曝光机 您所在的位置:

光罩曝光机

设备归属 : 微纳平台

设备管理员联系方式 :

王尧 wangy3@sustc.edu.cn 电话号码 0755-88015482

收费标准 : 校内 :    校外 :   

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设备介绍 :

设备品牌:

Karl SUSS MA/BA 6

结构:

包含控制面板、汞灯及控制电源箱、掩膜版台及衬底台、正面对准及背面对准显微镜、隔振平台;


功能:

将衬底和掩膜版对准后,对表面涂盖紫外光刻胶的衬底进行曝光,经显影后在衬底的光刻胶上形成掩膜版上的图形;


特色:

可使用接近式、接触式和真空式曝光模式;可对正性或负性光刻胶进行曝光,曝光强度最大12mW/cm2,曝光图形最小尺寸可达1微米;

掩膜版尺寸适用范围:7英寸、5英寸、4英寸、3英寸

衬底尺寸适用范围:6英寸、4英寸、3英寸、2英寸以及碎片


应用:

用于制备微米级电子器件,MEMS系统,生物医疗芯片等。