PICOSUN原子层沉积仪(ALD) 您所在的位置:

PICOSUN原子层沉积仪(ALD)

设备归属 : 微纳平台

设备管理员联系方式 :

马续航,88015474,maxh@sustc.edu.cn

收费标准 : 校内 :   280元/小时 校外 :   480元/小时

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设备介绍 :

设备品牌:

PicoSun RC200

结构:包含集成式反应腔、固体源脉冲系统、液体源脉冲系统、气体源脉冲系统、臭氧源脉冲系统、大型干泵等系统;

功能:反应物在N2气带动下在加热衬底表面热分解后进行原子层级沉积,并通过周期式气流脉冲交替进入反应腔式实现薄膜的生长;

特色:原子层级薄膜生长,可制备低缺陷密度的外延式单晶薄膜;

应用:可用于制备和研究目前特别热门的第三代半导体材料、high-K氧化物,石墨烯及其他二维材料、拓扑绝缘体材料、LED发光材料,用于太阳能转换的各类无机材料等,是进行突破性研究工作、发现新材料所依赖的重要研究设备。

可以生长的材料: