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PICOSUN原子层沉积仪(ALD)

品牌型号 : PicoSun RC200

设备描述 : 原子层沉积设备具备精细的薄膜生长控制能力,采用自饱和沉积交替脉冲生长方式,可制备高质量的原子层级薄膜

Lesker多源集成溅射设备

品牌型号 : Lesker Lab18

设备描述 : 具备四靶位,可在6英寸以下尺寸衬底上进行各种金属及非金属化合物薄膜磁控溅射镀膜,例如Al、Ni、Ta、Ti、Au、Pt、TiN、AlN、SiN、Al2O3、SiO2等 ...