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ICP等离子刻蚀机

品牌型号 : NMC GSE-200

设备描述 : ICP刻蚀机可实现plasma能量及密度的独立控制,设备目前可刻蚀Si、SiO2、Al、AlN、Ti、TiN、GaN、AlGaN、有机物等多种材料,可应用于MOS,metal gate器件等传统半导体及 ...

切割系统

品牌型号 : Veeco optium ADS-800

设备描述 : Optium ADS-800切割系统可对各种材料进行快速、高精度的切割。它为LED器件,太阳能电池,微电子和光电子的广泛应用提供了高产能切割的解决方案。 ...

光罩曝光机

品牌型号 : Karl SUSS MA/BA 6

设备描述 : 光罩曝光机用紫外波段光对光刻正胶或负胶衬底进行曝光。

电子束曝光机

品牌型号 : Nanobeam

设备描述 : Nanobeam 电子束曝光机使用加速电子束在涂有电子束胶的晶片上进行矢量扫描式曝光,以形成定义的纳米尺寸图形。

PICOSUN原子层沉积仪(ALD)

品牌型号 : PicoSun RC200

设备描述 : 原子层沉积设备具备精细的薄膜生长控制能力,采用自饱和沉积交替脉冲生长方式,可制备高质量的原子层级薄膜