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RIE等离子刻蚀机

品牌型号 : 北京创世威纳 RIE-801

设备描述 : 反应离子式刻蚀机,目前配置气体为Cl2,SF6,Ar和O2,可刻蚀SiO2、Si、Al、GaN、有机材料等膜层,可应用于MOS,metal gate器件等传统半导体及第三代半导体器件制备和研究领域 ...

ICP等离子刻蚀机

品牌型号 : NMC GSE-200

设备描述 : ICP刻蚀机可实现plasma能量及密度的独立控制,设备目前可刻蚀Si、SiO2、Al、AlN、Ti、TiN、GaN、AlGaN、有机物等多种材料,可应用于MOS,metal gate器件等传统半导体及 ...

切割系统

品牌型号 : Veeco optium ADS-800

设备描述 : Optium ADS-800切割系统可对各种材料进行快速、高精度的切割。它为LED器件,太阳能电池,微电子和光电子的广泛应用提供了高产能切割的解决方案。 ...

光罩曝光机

品牌型号 : Karl SUSS MA/BA 6

设备描述 : 光罩曝光机用紫外波段光对光刻正胶或负胶衬底进行曝光。

电子束曝光机

品牌型号 : Nanobeam

设备描述 : Nanobeam 电子束曝光机使用加速电子束在涂有电子束胶的晶片上进行矢量扫描式曝光,以形成定义的纳米尺寸图形。