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电镀槽

设备描述 : 电镀槽

氧化扩散炉

设备描述 : 可进行湿法和干法氧化工艺,用于微纳器件、微机电系统、生物芯片以及光学器件等先进工艺的开发和研究。

化学刻蚀清洗台

设备描述 : 设备配置SC-1、SC-2、BOE、ACT,铝腐蚀液,超声波清洗,以及自动冲水槽,可进行样品表面标准清洗工艺,AI及SiO2的湿法图形转移,光刻胶及有机物清洗,lifting 工艺等。 ...

PECVD

设备描述 : PECVD

旋转涂胶机

设备描述 : 旋转涂胶机